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  • 【专利】 一种高数值孔径成像系统偏振像差的检测方法

    作者:董立松 ; 李艳秋 ; 戴学兵 ; 刘昊 ; 刘克 年份:2014
    摘要:本发明公开了一种高数值孔径成像系统偏振像差的检测方法,采用偏振像差的物理光瞳表征方式,并对不同的像差成分进行不同的泽尼克分解方法,最终通过测试不同测试掩模的图形偏移、焦面平移和特征尺寸误差,可实时、准确地获取成像系统偏振像差的全部信息,适用于用于任意高NA成像系统偏振像差的测量;该方法可以检测出成像系统整个光瞳的偏振像差所包含的全部信息,不需要进行额外的测量,具有检测精度高、检测速度快的优点;采用成像系统中常用的测试掩模作为测试标记,不需要设计专门的检测元件,具有结构简单、检测成本低的优点。
  • 【期刊】 市政道路排水工程施工质量缺陷防治管理对策分析

    刊名:城市建设理论研究(电子版) 作者:董立松 关键词:市政道路排水工程 ; 施工质量缺陷 ; 防治管理对策 机构:任丘市第二建筑安装工程有限公司 ; 任丘市第二建筑安装工程有限公司 年份:2018
    摘要:随着我国基础设施建设的飞速发展,且为我国市政道路排水工程的建设发展作出较大贡献。作为我国市政道路排水工程重要组成部分,施工质量不仅关系排水工程的使用效果施,且对我国市政道路排水的整体建设具有重要影响。本文将市政道路排水工程施工质量缺陷防治管理对策分析为研究对象,对市政道路排水工程进行简单阐述,对市政道路排水工程施工质量存在的缺陷问题提出解决方法。本文旨在为市政道路排水工程施工的质量研究提供几点参考性建议,为市政道路排水工程的建设与发展提升尽绵薄之力。
  • 【期刊】 掩模衍射频谱轴向分量对光刻成像性能的影响

    刊名:光学学报 作者:董立松 ; 李艳秋 ; 郭学佳 关键词:成像系统 ; 物理光学 ; 浸没式光刻 ; 矢量成像模型 ; 衍射频谱 机构:北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室 ; 北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室 年份:2013
    摘要:传统三维光刻矢量成像模型中将投影系统物方电磁场表示为二维形式,实现方式分为两种:采用局部坐标和忽略掩模衍射频谱的轴向分量。后者在浸没式光刻系统仿真中的适用性需要进一步分析。简述了忽略掩模频谱轴向分量的矢量成像模型和引入该分量的全光路三维光刻矢量成像模型,利用这两种模型和商业仿真软件,研究了掩模衍射频谱轴向分量对光刻胶中成像特征尺寸的影响并对结果进行了讨论。研究结果表明,相干照明和部分相干照明条件下,掩模衍射频谱轴向分量对光刻成像的影响随着数值孔径的变化趋势存在较大差异。这说明相干照明下的分析结论并不适用于部分相干照明条件,且只有全光路三维矢量成像模型才能满足浸没式高分辨光刻仿真的要求。
  • 【期刊】 回火温度对28CrNiMoMn高强度钢组织和性能的影响

    刊名:金属热处理 作者:董立松 ; 辛士进 ; 董莹 ; 周喜顺 ; 李鹏 ; 郑宏伟 ; 任小虎 关键词:28CrNiMoMn钢 ; 回火温度 ; 力学性能 机构:中国兵器工业集团北方材料科学与工程研究院包头所 ; 中国兵器工业集团北方材料科学与工程研究院包头所 ; 呼和浩特科林热电有限责任公司 年份:2014
    摘要:研究回火温度对28CrNiMoMn高强度钢组织和性能的影响。结果表明,随回火温度升高,钢的强度和硬度下降,塑性提高,屈服强度在低温回火略有上升,到250℃达到最大值;继续升高回火温度,屈服强度开始下降;在300~400℃回火时,试验钢出现明显的回火脆性。试验钢显微组织随回火温度升高,由淬火马氏体转变为回火马氏体、屈氏体和索氏体。
  • 【专利】 保险柜用抗爆轰、火焰切割金属复合板

    摘要:本实用新型公开了一种保险柜用抗爆轰、火焰切割金属复合板,其特点是:该金属复合板由耐火焰切割组件(4)和金属基板(3)组成,所述耐火焰切割组件(4)由不锈钢面板(1)和铝板(2)组成,不锈钢面板(1)与铝板(2)二者不留间隙;适用于安防行业C级保险柜(箱)的内箱体、金库门的屏蔽层,该金属复合板经123gTNT当量炸药两次爆轰后,耐火焰切割组件变形控制在局部小塑性范围之内,层间未出现明显间隙,从而保证了该组件的耐火焰切割性能;高硬度钢背板微凸,无层裂和裂纹,保持了应有的抗工具破坏能力;复合板整体结构依然完整、牢固,综合防护性能没有明显下降。
  • 【专利】 基于衍射的套刻误差测量中测量波长的选择方法

    作者:董立松 ; 徐步青 ; 韦亚一 ; 马玲 年份:2018
    摘要:本发明提供了一种基于衍射的套刻误差测量中测量波长的选择方法。该选择方法包括以下步骤:建立标记模型,标记模型包括由下至上层叠的下层光栅、至少一层中间层和上层光栅;模拟具有不同测量波长的光线垂直照射在标记模型的情况,其中,光线在标记模型中反射并衍射得到零级光和±1级光,±1级光中+1级光的光强为第一光强,±1级光中-1级光的光强为第二光强;获取第一光强与第二光强之间光强差,并建立光强差与光线波长之间的关系曲线;根据关系曲线中光强差绝对值的最大值选择测量波长。通过本方法选择出特定条件下对套刻误差较为敏感的波长范围并直接应用,可减少多次的工艺试验,缩短生产、研发的周期,节约成本。
  • 【专利】 一种掩模参数的优化方法及装置

    作者:董立松 ; 何建芳 ; 韦亚一 ; 赵利俊 年份:2018
    摘要:本申请实施例公开了一种掩模参数的优化方法及装置中,通过获取测试图形、初始光源参数和初始掩模三维参数,其中初始掩模三维参数包括初始掩模厚度和初始掩模侧壁角,根据初始掩模三维参数,可以获取多组可行掩模三维参数,其中可行掩模三维参数包括可行掩模厚度和可行掩模侧壁角,基于测试图形和初始光源参数,得到每组可行掩模三维参数对应的可行光刻工艺窗口,将可行光刻工艺窗口作为衡量参考,其中,可行光刻工艺窗口最大值对应的可行掩模三维参数即可认为是本次优化的最优掩模三维参数。本申请实施例中,对初始掩模三维参数以及初始光源参数进行了优化,可以获得更高的光刻分辨率,因此得到更大的光刻工艺窗口和更好的曝光分辨率。
  • 【论文】 弦管上翼缘贴板加强K型方管间隙节点静力性能试验研究

    作者:董立松 关键词:贴板加强 ; K型方管间隙节点 ; 静力试验 ; 破坏模式 ; 极限承载力 ; 有限元分析 机构:哈尔滨工业大学 ; 哈尔滨工业大学 年份:2016
    摘要:空心管结构具有很多优良的性能,故其多用于各种大跨度结构和高层建筑结构中。在空心管结构中,管节点的性能尤为重要。然而在实际结构中,可能会出现部分节点承载力不足的问题。基于此,对节点进行加强是必要的。贴板加强是一种有效的加强方式,其研究成果亦在不断完善。然而国内外对于贴板加强的K型方管间隙节点的静力性能的研究成果尚不成熟,尤其是此类节点的试验研究工作尚未见报道。因此,本文将对弦管上翼缘贴板加强的K型方管间隙节点的静力性能进行试验研究和有限元分析。具体内容如下:首先,本文对1个未加强的K型节点和6个贴板加强的K型节点进行静力试验。以加强板的长度和宽度作为变量,记录各试验过程中的试验现象,总结其破坏模式;对试验数据进行处理以得到各试件承载力,分析各变量对节点极限承载力的影响程度和影响规律以及加强后节点相对于未加强节点的极限承载力提高程度。其次,在试验基础上,对各试验试件进行有限元建模分析,并保证各模型的边界条件、加载方式、几何尺寸、材料特性等条件与试件相同。将试验与模拟所得结果进行对比,分析两者产生偏差的原因,验证有限元分析该类型节点的准确性和合理性。之后,将试验结果和模拟结果与已有的相关节点的承载力计算公式结果进行对比,分析产生误差的原因和影响公式计算结果的因素,对公式进行合理修正。最后,对节点的效率问题进行研究,讨论支管、弦管截面尺寸对节点效率的影响,研究在保证节点承载力不小于支管承载力条件下加强板厚度的取值问题。最终对加强板尺寸的取值给出建议。
  • 【期刊】 低倍缺陷对38CrSi钢力学性能的影响

    刊名:金属热处理 作者:董立松 ; 辛士进 ; 董莹 ; 周喜顺 ; 邸建辉 ; 王东 ; 崔艳芳 ; 李鹏 关键词:低倍缺陷 ; 酸蚀 ; 力学性能 ; 夹杂物 机构:中国兵器科学研究院宁波分院包头研究所 ; 中国兵器科学研究院宁波分院包头研究所 年份:2012
    摘要:用酸蚀方法研究38CrSi钢的低倍缺陷与力学性能的关系。结果表明,低倍缺陷对钢的强度和塑性影响不大,而它对钢的冲击性能有明显作用,这种作用与钢中非金属夹杂物含量有关,夹杂物含量越高,钢的冲击韧性越低,通过电镜分析认为是α-MnS夹杂物。
  • 【期刊】 高硬度装甲钢抗弹性能及其机理研究

    刊名:兵器材料科学与工程 作者:董立松 ; 刘宁 ; 辛士进 ; 邸建辉 ; 高平 关键词:抗弹性能 ; 绝热剪切 ; 冲塞 机构:中国兵器科学研究院宁波分院 ; 中国兵器科学研究院宁波分院 年份:2010
    摘要:通过穿甲试验,研究装甲钢硬度与抗弹性能之间的关系;由弹坑解剖分析了装甲钢板穿甲破坏形貌以及弹坑表面的强化机理。试验结果表明:高硬度装甲钢抗弹性能好;装甲钢板为混合穿甲形式破坏;弹坑表面的变形带和相变带是由非常细小马氏体板条组成,其硬度非常高,远远高于装甲钢板的基体和淬火硬度。
  • 【期刊】 光源掩模协同优化的原理与应用

    刊名:半导体技术 作者:董立松 ; 陈文辉 ; 何建芳 ; 韦亚一 关键词:远紫外光刻(EUVL) ; 分辨率增强技术 ; 光源掩模协同优化(SMO) ; 像素化光源 ; 193 nm浸没式光刻 ; 193 nm immersion lithography 机构:中国科学院微电子研究所 ; 中国科学院微电子研究所 ; 微电子器件与集成技术重点实验室 年份:2017
    摘要:当半导体技术节点缩小至14 nm及以下时,光刻技术也逐渐接近了其物理极限.光源掩模协同优化(SMO)作为一种新型的分辨率增强技术,能够显著提升极限尺寸下半导体光刻的重叠工艺窗口,有效延伸当前常规光刻技术的生存周期.综述了SMO这一技术,分析了SMO的原理,介绍了该技术的发展和在半导体制造工艺中的应用,重点探讨了其在先进光刻节点研发中的应用,并对其挑战和发展趋势进行了展望,认为SMO不仅是193 nm浸润式光刻技术的重要组成部分,也将是EUV光刻中必不可少的一种技术.
  • 【专利】 添加亚分辨率辅助图形的方法及该方法的应用

    作者:董立松 ; 左晔华 ; 韦亚一 ; 刘艳松 年份:2018
    摘要:本发明提供了一种添加亚分辨率辅助图形的方法及该方法的应用。该方法包括以下步骤:S1,从原始版图中截取具有周期结构的图形,得到待修正版图;S2,将待修正版图通过反向光刻技术进行修正,得到修正后版图,修正后版图包括符合成像要求的主图形和辅助图形;S3,将主图形和辅助图形分离,并将辅助图形加入原始版图中进行基于模型的光学邻近修正。上述方法改变了在光学邻近修正工作中添加亚分辨率辅助图形的方式和使用的软件工具,可以有效缩短周期版图添加亚分辨率辅助图形的时间周期,不需要设计专门的测试掩模和经过多次图形摆放的测算,也不需要进行多次曝光测试,具有低成本和节约时间的优点。
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